白光干涉仪AE-100M产品用途：
结合光学显微镜与白光干涉功能的扫描式白光干涉显微镜，结合显微物镜与干涉仪、不需要复杂光调整程序，兼顾体积小、纳米分辨率、易学易用等优点，可提供垂直扫描高度达400um的微三维测量，适合各种材料与微组件表面特征和微尺寸检测。应用领域包含：玻璃镜片、镀膜表面、晶圆、光碟/影碟、精密微机电元件、平面液晶显示器、高密度线路印刷电路板、IC封装、材料分析与微表面研究等。

产品特点:
● 纳米深度3D检测
● 高速、无接触量
● 表面形状、粗糙度分析
● 非透明、透明材质皆适用
● 非电子束、非雷射的安全量测
● 低维护成本

专业级的3D图形处理与分析软体（Post Topo）：
● 提供多功能又具友好界面的3D图形处理与分析
● 提供自动表面平整化处理功能
● 提供高阶标准片的软件自校功能
● 深度、高度分析功能提供线性分析与区域分析等两种方式
● 线性分析方式提供直接追溯ISO定义的表面粗糙度（Roughness）与起伏度
● （waviness）的测量分析。可提供多达17种的ISO量测参数与4种额外量测数据（Wafer）
● 区域分析方式提供图形分析与统计分析
● 具有平滑化、锐化与数字过滤波等多种二维快速利叶转换（FFT）处理功能
● 量测分析结果以BMP等多种图形档案格式输出或是Excel文本文件格式输出

高速精密的干涉解析软件(ImgScan)：
● 系统硬件搭配ImgScan前处理软件自动解析白光干涉条纹
● 垂直高度可达0.1nm
● 高速的分析算法则，让你不在苦候测量结果
● 垂直扫描范围的设定轻松又容易
● 有10X、20X、50X倍率的物镜可供选择
● 平台X、Y、Z位置数字式显示，使检测目标寻找快速又便利
● 具有手动/自动光强度调整功能以取得较佳的干涉条纹对比
● 具有高精度的PVSI与高速VSI扫描测量模式供选择
● 具有解析算法则可处理半透明物体的3D形貌
● 具有自动补点功能
● 可自行设定扫描方向

白光干涉仪AE-100M技术规格参数：